易度MFC助力真空行業流量控制長期穩定
真空鍍膜設備中，MFC的穩定性直接關系到工件的鍍膜質量。易度MFC采用層流壓差測量原理，長期運行零漂小，不易污染堵塞，流量控制精準快速，能適用硅烷、乙炔、氫氣、氬氣、氮氣等多種氣體，可提升各類型PVD、CVD設備的鍍膜質量。
低溫漂低壓漂 長期運行穩定 多種通訊方式 抗干擾能力強
更多場景應用
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真空磁控濺射鍍膜
真空蒸發鍍膜
真空離子鍍膜
等離子體增強CVD(PECVD)
金屬有機CVD(MOCVD)
原子層沉積(ALD)
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服務優勢
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原理優勢
領先的層流原理，產品精度高、穩定性高、響應速度快
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技術優勢
14年的技術積累，核心器件完全自主研發，定制性強，適應性寬
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應用優勢
行業龍頭客戶長期批量使用，各種應用工況經驗豐富
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服務優勢
1小時及時響應，24小時方案呈現，貨期短，服務靈活性強